本文,深圳大學機電學院張希副研究員、刁東風團隊等在《Nano Res》期刊發表名為“Superhydrophobic, photo-sterilize, and reusable mask based on graphene nanosheet-embedded carbon (GNEC) film”的論文,研究報告了一種超疏水,光消毒的可重復使用的多層石墨烯嵌入碳膜((GNEC))口罩,具有高密度的立式結構化石墨烯納米片邊緣。GNEC口罩具有出色的疏水性(水接觸角:157.9°)和出色的過濾效率,細菌過濾效率(BFE)為100%。此外,還具有出色的光消毒性能。